影響鋁陽(yáng)極氧化膜質(zhì)量的因素主要有哪些
發(fā)布時(shí)間：
2020-08-09
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鋁陽(yáng)極氧化膜生長(cháng)的一個(gè)先決條件是，電解液對氧化膜應有溶解作用。這并不代表著(zhù)所有存在溶解作用的電解液中陽(yáng)極氧化都能生成氧化膜，或者說(shuō)生成的鋁陽(yáng)極氧化膜性質(zhì)相同，那影響鋁陽(yáng)極氧化膜質(zhì)量的因素主要有哪些呢？
①硫酸濃度：通常采用15%～20%。降低硫酸濃度，鋁陽(yáng)極氧化膜生長(cháng)速度加快，膜的硬度高，孔隙少，耐磨性好。濃度升高，膜的生長(cháng)速度降低，硬度，耐磨性略差，但膜的孔隙率高，富有彈性，吸附力強，染色性好（易于染深色）。
②電解液溫度：電解液溫度對氧化膜質(zhì)量影響很大。當溫度低于10℃，鋁陽(yáng)極氧化膜的厚度增大，孔隙率較低，硬度高，耐磨性好；當溫度在10～20℃之間時(shí)，所生成的氧化膜多孔，硬度低，耐磨性差，但是吸附能力強，并富有彈性，適宜染色；當溫度為22～30℃時(shí)，所得到的膜是柔軟的，耐磨性相當差，但是吸附能力好；當溫度大于30℃時(shí)，膜就變得疏松且不均勻，有時(shí)甚至不連續，且硬度低，因而失去使用價(jià)值；因此，生產(chǎn)時(shí)必須嚴格控制電解液的溫度。
③電流密度：電流密度過(guò)低，膜生長(cháng)速度緩慢，生成的膜較致密，硬度和耐磨性降低。如果在一定限度內，電流密度升高，加快了膜的生長(cháng)速度，縮短了氧化時(shí)間，生成膜的孔隙多，且硬度和耐磨性升高，易于著(zhù)色；但是電流密度過(guò)高，膜的溶解速度升高，過(guò)熱的零件表面和局部溫度升高的溶液，有燒毀零件的可能。
④氧化時(shí)間：氧化時(shí)間的選擇，取決于電解液濃度，陽(yáng)極電流密度，溫度和所需要的膜厚。相同條件下,當電流密度恒定時(shí),膜的生長(cháng)速度與氧化時(shí)間成正比；但當膜生長(cháng)到一定厚度時(shí),由于膜電阻升高,影響導電能力,而且由于溫升,膜的溶解速度增大，所以膜的生長(cháng)速度會(huì )逐漸降低，到最后不再增加。
⑤攪拌和移動(dòng)：可保證溶液溫度的均勻性，促使電解液對流,強化冷卻效果，不會(huì )造成因金屬局部升溫而導致氧化膜的質(zhì)量下降。
⑥鋁合金成分：一般來(lái)說(shuō),鋁金屬中的其它元素使膜的質(zhì)量下降，且得到的氧化膜沒(méi)有純鋁上得到的厚,硬度也低，不同成分的鋁合金,在進(jìn)行陽(yáng)極氧化處理時(shí)要注意不能同槽進(jìn)行。
⑦電解液中的雜質(zhì)：在鋁陽(yáng)極氧化所用電解液中可能存在的雜質(zhì)使膜的孔隙率增加,表面粗糙和疏松。若其含量超過(guò)極限值,甚至會(huì )使制件發(fā)生腐蝕穿孔，工件表面出現白點(diǎn)或斑狀白塊,以及褐色粉狀物吸附于膜上等現象。
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